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2.5D和3D多Chiplet架構(gòu)的多保真度熱建模

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引言+ l2 f3 I+ j0 |4 w  F) U& X
隨著人工智能和機(jī)器學(xué)習(xí)應(yīng)用的快速發(fā)展,對(duì)計(jì)算能力的需求不斷增加。傳統(tǒng)的2D芯片設(shè)計(jì)方法在滿足這些性能需求方面已達(dá)到極限。使用2.5D硅中介層和3D封裝技術(shù)實(shí)現(xiàn)較小Chiplet的異構(gòu)集成,已成為解決這一挑戰(zhàn)的有效方法。
5 c5 o  i! s& S/ |1 |) m8 e0 {) n
/ R4 ]5 |( k. y. G3 Z7 I# [6 H2.5D和3D集成在降低成本和提高制造良率方面具有顯著優(yōu)勢(shì),但由于緊湊的排列和高計(jì)算密度,也加劇了熱管理的挑戰(zhàn)。隨著系統(tǒng)規(guī)模的增長(zhǎng)和不同設(shè)計(jì)階段對(duì)精度和速度的要求各不相同,解決這些熱建模挑戰(zhàn)變得非常重要。
. i" k5 y# Z. A" n3 X! L4 S  I
% I- r7 F+ H' p" x- s/ i本文介紹MFIT(多保真度熱建模)框架,該框架提供了一系列熱模型,可以在整個(gè)芯片設(shè)計(jì)周期中有效平衡精度和速度。我們將探討MFIT的關(guān)鍵組成部分,以及如何為2.5D和3D基于Chiplet的系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)高效的設(shè)計(jì)空間探索和運(yùn)行時(shí)熱管理[1]。9 m# _4 r1 f* k6 x! {
, R3 L  J8 {. p; y

5 m! l9 r# L1 I3 m4 N8 JMFIT概述# ?! B. m2 a, X4 ^
MFIT提供了一組多保真度熱模型,涵蓋了廣泛的精度和執(zhí)行時(shí)間權(quán)衡:
$ {- U+ v8 D+ D% o0 a4 H
  • 精細(xì)FEM(有限元方法)模型
  • 抽象FEM模型
  • 熱RC(電阻-電容)線路模型
  • 離散狀態(tài)空間(DSS)模型) e& j" [9 f; G0 X! `3 \# i0 I
    & E- L- r& c2 B0 l. n; H; Q

    # y; v: U5 B+ H* u+ V8 E7 W3 W , X4 f# ~; B  A: |' p
    圖1: MFIT中多保真度熱模型的概述。該圖展示了從精細(xì)FEM模型到DSS模型的演進(jìn),突出了精度和執(zhí)行時(shí)間之間的權(quán)衡。
    9 O/ ]& c/ a6 V& ~5 j7 B* P  \7 _: J/ R* H
    這組模型中的每個(gè)模型在設(shè)計(jì)周期中都有特定的用途:
  • 精細(xì)FEM模型提供最準(zhǔn)確的參考,但過(guò)于復(fù)雜,無(wú)法模擬整個(gè)基于Chiplet的系統(tǒng)。捕捉精確的幾何形狀,作為黃金參考。
  • 抽象FEM模型源自精細(xì)模型,能夠模擬大規(guī)模系統(tǒng),對(duì)精度的影響可以忽略不計(jì)。用等效材料塊替代微觀結(jié)構(gòu)。
  • 熱RC模型將系統(tǒng)進(jìn)一步抽象為線路表示,允許更快的模擬,適用于設(shè)計(jì)空間探索。獨(dú)立于特定幾何形狀,在連續(xù)時(shí)間中運(yùn)行。
  • DSS模型提供最快的執(zhí)行速度,可實(shí)現(xiàn)運(yùn)行時(shí)熱管理。針對(duì)特定架構(gòu)進(jìn)行調(diào)整,在離散時(shí)間中運(yùn)行。
    ; G) M+ }' X2 c" r4 v[/ol]
    ' p4 w% @, z9 E* O3 S7 `以下讓我們深入了解每種模型類(lèi)型。6 O, ^4 }1 {& j4 @" }+ c5 F

    # r5 u  u, u6 X6 m+ ~2 u0 U精細(xì)到抽象FEM建模
    - d# ?' V4 G' z1 P0 p% Y  S該過(guò)程首先創(chuàng)建封裝內(nèi)特定組件的詳細(xì)FEM模型,例如中介層內(nèi)的單個(gè)鏈接和連接Chiplet到中介層的μ-bumps。然而,這種細(xì)節(jié)水平由于計(jì)算復(fù)雜性限制了模擬范圍。. Z: |# @& J, m

    & n/ w' }' ?; {' `7 J% ^# Q, c& y為了實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)級(jí)模擬,MFIT系統(tǒng)地設(shè)計(jì)抽象模型,用均質(zhì)塊替換詳細(xì)結(jié)構(gòu)。這些塊的材料參數(shù)經(jīng)過(guò)精心調(diào)整,以匹配原始結(jié)構(gòu)的熱行為。' l) }. ~) e) r

    ! o! p0 @( M. p$ j& Z ) u+ H' o) z" g& k; f7 O
    圖2: μ-bump層子部分的溫度輪廓,比較詳細(xì)和抽象模型。該圖展示了抽象建模如何緊密匹配詳細(xì)結(jié)構(gòu)的熱行為。
    7 q; |" S8 i1 h% I
    0 v% \2 J% \5 @" TMFIT中的關(guān)鍵抽象包括:* ]8 ^8 S- J( B/ j" L
  • μ-bump抽象模型: μ-bumps對(duì)熱行為至關(guān)重要,因?yàn)槭菑腃hiplet散熱的兩條路徑之一。MFIT用均質(zhì)塊替換詳細(xì)的μ-bump和填充材料,經(jīng)過(guò)仔細(xì)調(diào)整以匹配熱特性。
  • 鏈接抽象模型: Chiplet之間的互連鏈接根據(jù)其熱影響被建模為抽象塊或完全省略。
  • 散熱器抽象模型: MFIT不模擬復(fù)雜的流體動(dòng)力學(xué),而是使用應(yīng)用于蓋頂?shù)臒醾鬟f系數(shù)(HTC)來(lái)表示散熱器。
    3 ~' m9 k7 d2 _
    % L' B" O2 g  }: B! v  [! _2 ~
    這些抽象使得FEM模擬能夠處理更多Chiplet數(shù)量,精度損失可以忽略不計(jì),同時(shí)顯著減少執(zhí)行時(shí)間。
    5 n7 l3 }1 U6 z- y, A+ w2 b
    4 L7 Z0 e: W! D5 ]熱RC模型
    " k2 X* [; z. f2 X; w7 M; B5 a為了實(shí)現(xiàn)快速設(shè)計(jì)空間探索,MFIT采用了經(jīng)過(guò)FEM參考模型驗(yàn)證的熱RC線路模型。構(gòu)建熱RC模型的過(guò)程包括:
  • 將封裝分為水平層
  • 創(chuàng)建熱節(jié)點(diǎn)的3D網(wǎng)絡(luò)
  • 計(jì)算每個(gè)節(jié)點(diǎn)的熱傳導(dǎo)和熱容
  • 在封裝邊界處加入對(duì)流熱傳遞1 W* S( n+ \* G, U4 F4 {6 \7 G
    [/ol]
    . T( H' m! r9 S. c  U由此產(chǎn)生的常微分方程(ODE)系統(tǒng)可以用矩陣形式表示:; l9 i/ O$ @  S. ?, o/ F
    1 p9 v8 B& d& i% O/ x# x
    C × dT/dt = G × T + q
    6 m, v# N6 J& S5 x1 C* u# g
    " O- J- l6 t7 R8 R其中T是溫度向量,C是電容矩陣,G是傳導(dǎo)矩陣,q是熱生成向量。
    5 F0 P5 f$ R6 Q. c. C4 V" ~; Z. [9 W- Z0 E* u8 F7 E
    MFIT采用自適應(yīng)求解器LSODA來(lái)高效求解這個(gè)ODE系統(tǒng),利用矩陣的稀疏性來(lái)加速執(zhí)行時(shí)間。6 M- i, Q, y9 C4 g" c% I

    ) s1 B% ?* K9 [- v$ Y( x2 z離散狀態(tài)空間模型6 x+ t4 C$ F3 A
    為了實(shí)現(xiàn)運(yùn)行時(shí)熱管理,MFIT通過(guò)給定采樣周期將熱RC模型離散化,得到離散狀態(tài)空間(DSS)模型。結(jié)果模型形式為:/ [. E" V. M# @+ ?0 O

    % F$ I2 _( U4 t' E& a' y8 j+ RT[k+1] = A × T[k] + B × q[k]" Z7 L: ~; O" D% I& h3 x- M

    1 L0 ^, [- @& J/ f2 l& ]9 h- g其中A和B分別是狀態(tài)矩陣和輸入矩陣。這種離散時(shí)間表示允許極快的執(zhí)行,適用于實(shí)時(shí)溫度預(yù)測(cè)和動(dòng)態(tài)熱功率管理。$ f8 X& |5 L' w% O; O

      Y& U0 q/ H2 ]8 M& H  g* ]) w: H1 u' b實(shí)驗(yàn)結(jié)果; P& L7 T$ K/ A+ u. s, @3 q
    MFIT在三個(gè)2.5D系統(tǒng)(16、36和64個(gè)Chiplet)和一個(gè)3D系統(tǒng)(16x3個(gè)Chiplet)上進(jìn)行了評(píng)估,使用了合成和真實(shí)AI/ML應(yīng)用工作負(fù)載。; j; Z$ a/ ]4 _4 d( q% H4 w

    4 Z% b2 G( E( y2 R4 L' b * D% \6 a: e8 m% G" [
    圖3: 提出的熱模型和HotSpot對(duì)各種Chiplet系統(tǒng)的執(zhí)行時(shí)間。該圖展示了MFIT模型相比傳統(tǒng)方法實(shí)現(xiàn)的顯著速度提升。
    # U3 ^8 I0 W# y4 |' L5 G
    6 E3 u! [* H( \主要發(fā)現(xiàn)包括:
    5 \) u7 Y' S5 d, H& n
  • 精度: 與FEM模擬相比,熱RC和DSS模型的最壞情況平均絕對(duì)誤差僅為2.5D系統(tǒng)的1.63°C和3D系統(tǒng)的1.30°C。
  • 速度: 熱RC模型的執(zhí)行時(shí)間從1.8秒到53秒不等,而DSS模型進(jìn)一步將其減少到39-944毫秒。與需要數(shù)小時(shí)到數(shù)天的FEM模擬相比,這代表了顯著的加速。
  • 溫度違規(guī)預(yù)測(cè): MFIT模型在預(yù)測(cè)Chiplet溫度超過(guò)給定閾值時(shí)實(shí)現(xiàn)了高精度,大多數(shù)工作負(fù)載顯示超過(guò)90%的準(zhǔn)確率。3 z8 {: j$ j- x1 @& G9 d. u9 _
      k9 J% u8 Q1 e

    1 J8 t' T- C  N7 X7 v) A+ d6 e圖4: 2.5D和3D系統(tǒng)中代表性Chiplet的溫度-時(shí)間圖。這些圖表展示了FEM、熱RC和DSS模型結(jié)果在不同系統(tǒng)配置下的密切一致性。
    1 a6 A2 I. e% |8 U( b
      q$ R" @: E' ~" X, @2 H結(jié)論5 L) l/ s5 I9 V, Q" B
    MFIT提供了全面的熱模型,涵蓋了廣泛的精度和執(zhí)行時(shí)間權(quán)衡,適用于2.5D和3D基于Chiplet系統(tǒng)設(shè)計(jì)周期的不同階段。通過(guò)提供從系統(tǒng)規(guī)范到運(yùn)行時(shí)管理的一致模型,MFIT能夠?yàn)橄乱淮?jì)算系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)更高效和熱感知的設(shè)計(jì)。
    : {7 f8 i* `6 c3 _# [
    # j% q$ O, A( y6 A9 ~- G- uMFIT的熱RC和DSS模型的開(kāi)源性質(zhì)鼓勵(lì)了在這一關(guān)鍵異構(gòu)集成領(lǐng)域的進(jìn)一步研究和開(kāi)發(fā)。隨著基于Chiplet的系統(tǒng)不斷發(fā)展,像MFIT這樣的框架將在解決性能和集成密度增加帶來(lái)的熱挑戰(zhàn)方面發(fā)揮關(guān)鍵作用。$ X( s! `2 w& Q, A5 R

    , V: E5 P$ y. z4 X: A; {/ i參考文獻(xiàn)
    9 P; F& V- B/ L7 y; f9 h2 |! }[1] L. Pfromm et al., "MFIT : Multi-FIdelity Thermal Modeling for 2.5D and 3D Multi-Chiplet Architectures," arXiv:2410.09188v1 [cs.AR], Oct. 2024.! H: ~4 e& F. c9 o( w4 U2 f
    END/ n6 M! J; n  }: L
      j# {$ a& t# B  Z1 s+ h+ ]

    $ S) w: o+ f4 ], U8 Y$ [1 D軟件申請(qǐng)我們歡迎化合物/硅基光電子芯片的研究人員和工程師申請(qǐng)?bào)w驗(yàn)免費(fèi)版PIC Studio軟件。無(wú)論是研究還是商業(yè)應(yīng)用,PIC Studio都可提升您的工作效能。  T) R* K; R4 J1 {; m) T) ~) A: |  L
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